




氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置
科儀產(chǎn)品主要有:薄膜制備設(shè)備,真空冶金設(shè)備,檢漏設(shè)備,真空系統(tǒng)等非標真空產(chǎn)品;系列分子泵,離子泵,鈦升華泵,深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備;背壓法氦質(zhì)譜檢漏采用背壓法檢漏時,首先將被檢產(chǎn)品置于高壓的氦氣室中,浸泡數(shù)小時或數(shù)天,如果被檢產(chǎn)品表面有漏孔,氦氣便通過漏孔壓入被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封腔中,使內(nèi)部密封腔中氦分壓力上升。系列干式渦旋泵,干式爪泵,干式螺桿泵等無油真空獲得設(shè)備;超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些,希望對您有所幫助!
1. 檢漏儀專用分子泵
2. 機械泵或者干泵
3. 定制檢漏儀專用電磁閥
4. 內(nèi)置標準漏口
5. 放大器
6. 采用質(zhì)譜專用模塊
以上是科儀為您一起分享的內(nèi)容,科儀專業(yè)生產(chǎn)氦檢漏,歡迎新老客戶蒞臨。
氦質(zhì)譜檢漏儀
北京科儀真空技術(shù)有限公司是國內(nèi)新興的一家專業(yè)從事真空領(lǐng)域的高新技術(shù)企業(yè)。
氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)是真空檢漏領(lǐng)域里不可缺少的一種技術(shù),由于檢漏,簡便易操作,儀器反應(yīng)靈敏,精度高,不易受其他氣體的干擾,在電阻爐檢漏中得到了廣泛應(yīng)用。氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)質(zhì)譜學(xué)原理,用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。其工作原理是在高壓輸出中如遇雷擊,氧化鋅片電阻變小,大電流對地短路,輸電線路被保護。由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。
本產(chǎn)品信息由科儀提供,如果您想了解更多的產(chǎn)品信息,您可撥打圖片上的電話進行咨詢,科儀竭誠為您服務(wù)!
氦質(zhì)譜檢漏儀的原理
氦質(zhì)譜檢漏儀一般由質(zhì)譜管,真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。其中質(zhì)譜管包括離子源,質(zhì)量分析器和離子檢測器; 真空系統(tǒng)一般由分子泵、機械泵、電磁閥和真空計組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束,以一定能量注入質(zhì)分析器,
目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質(zhì)分析器的作用起將各類離子按其質(zhì)荷比的不同實現(xiàn)分離。
本信息由科儀為您提供,如果您想了解更多產(chǎn)品信息,您可撥打圖片上的電話咨詢,科儀竭誠為您服務(wù)!
氦質(zhì)譜檢漏儀光無源器件檢漏
光無源器件是不含光能源的光能器件的總稱。光無源器件在光路中都要消耗能量,插入損耗是其主要性能指標。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。氦質(zhì)譜檢漏儀的環(huán)境條件氦質(zhì)譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的儀器,今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來說一下,氦質(zhì)譜檢漏儀的使用環(huán)境條件有哪些,希望對您有所幫助。它們在光路中分別實現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用。
光無源器件是不含光能源的光功能器件的總稱。光無源器件在光路中都要消耗能量,插入損耗是其主要性能指標。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。環(huán)境溫度較好控制在23℃附近,因為標準漏孔的出廠標稱漏率對應(yīng)的環(huán)境溫度一般為23℃。它們在光路中分別實現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用。
無源器件檢漏原因:光無源器件是光纖通信設(shè)備的重要組成部分,也是其它光纖應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的元器件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性等特點。然后取出被檢產(chǎn)品,將表面的殘余氦氣吹除后再將被檢產(chǎn)品放入與檢漏儀相連的真空容器內(nèi),被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封腔內(nèi)的氦氣會通過漏孔泄漏到真空容器,再進入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率測量。光無源器件對密封性的要求極高,如果存在泄漏會影響其使用性能和精度,光通信行業(yè)的漏率標準是小于 5×10-8 mbar.l/s,因此需要進行泄漏檢測。氦質(zhì)譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可準確定位,定量漏點,替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏,目前已廣泛應(yīng)用于光無源器件的檢漏。